Wasson Chromatography Corner 15

Význam tématu

Analytická chromatografie hraje klíčovou roli při stanovení průmyslových plynů, zejména kyselých plynů s obsahem H2S, CO2 nebo korozivních plynů jako je chlór. Přesná detekce a kvantifikace kontaminantů je nezbytná pro bezpečnost zařízení, ochranu materiálů a dodržování legislativních norem.

Cíle a přehled studie

Newsletter popisuje dvě hlavní aplikace: analýzu kyselých plynů pomocí duálního GC s TCD/TCD/FID detektory a stanovení nečistot v plynné fázi chloru. Doplněně jsou uvedeny obecné tipy pro čištění a regeneraci GC kapilárních kolonek.

Použitá metodika a instrumentace

Pro analýzu kyselých plynů byl využit plynový chromatograf Agilent nakonfigurovaný se dvěma tepelně vodivostními detektory a plamenovou ionizační detekcí. Systém pracuje s aminosvětřením pro předúpravu vzorku.
Pro chlor byla zvolena konfigurace se dvěma TCD detektory, materiály odolnými vůči korozi (Hastelloy ventily, niklové trubky) a speciální kolonkou (stripper column) k zachycení samotného chloru před analytickou částí.

Hlavní výsledky a diskuse

U analýzy kyselých plynů dosáhly detekční limity: CO2, N2, CH4 a O2/Ar do 200 ppm, CO do 400 ppm, H2S do 500 ppm a H2 do 100 ppm. FID detekce umožnila kvantifikovat C1–C5 parafiny a olefiny do 20 ppm, s částečnými ko-elucemi C5 izomerů při šesti minutách analýzy.
V případě chloru bylo prokázáno stanovení CO2, N2, O2/Ar, CH4, CO a H2 do úrovně stovek ppm při zachování integrity analytického systému.

Přínosy a praktické využití metody

Popisované GC konfigurace poskytují rychlou a přesnou kvantifikaci průmyslových plynů a korozivních látek, což zajišťuje ochranu zařízení, optimalizaci procesů a dodržení bezpečnostních standardů.

Budoucí trendy a možnosti využití

Očekává se další zrychlení analýz, vývoj vysoce selektivních detektorů, rozšíření automatizace a integrace online analýzy při monitoringových a kontrolních procesech v reálném čase.

Závěr

Implementace duálního GC s TCD/TCD/FID a odolnými materiály umožňuje spolehlivou a opakovatelnou analýzu jak kyselých a korozivních plynů, tak nečistot v chloru na úrovni ppm, což je klíčové pro průmyslové aplikace.

Reference

Wasson-ECE Instrumentation Monthly Newsletter, Chromatography Corner Issue 15, March 2010