ANALYSIS OF PROPYLENE IMPURITIES USING SELECT LOW SULFUR COLUMN AND SINGLE TUNE WITH GC-ICP-MS QQQ ORS
Ostatní | 2016 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Analýza nežádoucích složek v propylenu na úrovni jednotek až desítek částic na miliardu je klíčová pro zajištění kvality polymeračních procesů a prodloužení životnosti katalyzátorů. Přítomnost sulfidu vodíku, karbonylsulfidu, fosfinu a arsinu může negativně ovlivnit transparentnost, vůni a reaktivitu produktů. Jednotné a citlivé stanovení těchto kontaminantů usnadňuje kontrolu výrobních parametrů a prevenci nežádoucích jevů v průmyslové praxi.
Cílem práce bylo navrhnout postup umožňující separaci a kvantifikaci čtyř hlavních nečistot v propylenu v jediné analýze. Autoři představují využití kolony Agilent Select Low Sulfur v kombinaci s GC-ICP-MS QQQ v ORS režimu s kyslíkem, aby eliminovali nutnost více kolón či převádění ladicích podmínek. Studie demonstruje schopnost metody dosáhnout detekčních limitů v rozmezí 0,05–2,5 ppb.
Instrumentace:
Podmínky analýzy:
Reagencie a příprava vzorků:
Separační výkon kolony Select Low Sulfur umožnil rozlišení všech čtyř nečistot od matrice propylenu v jediném běhu. Detekční limity stanovené na S/N = 3 byly:
Metoda umožňuje:
Prakticky lze metodu využít pro rutinní monitoring výrobních toků i pro výzkumné účely při vývoji nových katalyzátorů.
Očekávané směry vývoje:
Studie prokázala, že kombinace kolony Agilent Select Low Sulfur s GC-ICP-MS QQQ v ORS režimu představuje efektivní, citlivý a robustní nástroj pro kvantifikaci stopových nečistot v propylenu. Jednotný postup zkracuje dobu analýzy, minimalizuje potřebu výměny kolon a ladicích podmínek a poskytuje spolehlivé výsledky na úrovni ppb.
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
ZaměřeníPrůmysl a chemie
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Analýza nežádoucích složek v propylenu na úrovni jednotek až desítek částic na miliardu je klíčová pro zajištění kvality polymeračních procesů a prodloužení životnosti katalyzátorů. Přítomnost sulfidu vodíku, karbonylsulfidu, fosfinu a arsinu může negativně ovlivnit transparentnost, vůni a reaktivitu produktů. Jednotné a citlivé stanovení těchto kontaminantů usnadňuje kontrolu výrobních parametrů a prevenci nežádoucích jevů v průmyslové praxi.
Cíle a přehled studie / článku
Cílem práce bylo navrhnout postup umožňující separaci a kvantifikaci čtyř hlavních nečistot v propylenu v jediné analýze. Autoři představují využití kolony Agilent Select Low Sulfur v kombinaci s GC-ICP-MS QQQ v ORS režimu s kyslíkem, aby eliminovali nutnost více kolón či převádění ladicích podmínek. Studie demonstruje schopnost metody dosáhnout detekčních limitů v rozmezí 0,05–2,5 ppb.
Použitá metodika a instrumentace
Instrumentace:
- Gas chromatograf Agilent 7890B
- ICP-QQQ hmotnostní spektrometr Agilent 8800
- GC-ICP-MS interface, ORS s kyslíkem jako reaktivním plynem
- Kolona Select Low Sulfur, 60 m × 0,32 mm
- Deans switch pro odvětrání matrice
- Valco 10portní plynový vstřikovací ventil pro standardní adici
Podmínky analýzy:
- Izotermický režim pece při 35 °C
- Přenos H2S a COS: m/z 32→48, doba sběru 0,4 s
- Přenos PH3: m/z 31→47, doba sběru 0,4 s
- Přenos AsH3: m/z 75→91, doba sběru 0,1 s
- Použití helia jako nosného plynu, argon jako make-up
Reagencie a příprava vzorků:
- Plynové standardy PH3 a AsH3 na nosiči H2, H2S a COS na nosiči Ar (10 ppmv)
- Dynamické ředění pomocí omezovacího systému Merlin MicroScience
Hlavní výsledky a diskuse
Separační výkon kolony Select Low Sulfur umožnil rozlišení všech čtyř nečistot od matrice propylenu v jediném běhu. Detekční limity stanovené na S/N = 3 byly:
- H2S: 2,5 ppbv
- COS: 1,9 ppbv
- PH3: 0,15 ppbv
- AsH3: 0,05 ppbv
Přínosy a praktické využití metody
Metoda umožňuje:
- Sledování ultra stopových nečistot v propylenu v reálném čase
- Snížení doby analýzy díky jednotné koloně a ladicímu režimu
- Minimalizaci kolizních a izobarických interferencí v hmotnostním spektrometru
- Zavedení standardů kvality v petrochemickém i polymeračním průmyslu
Prakticky lze metodu využít pro rutinní monitoring výrobních toků i pro výzkumné účely při vývoji nových katalyzátorů.
Budoucí trendy a možnosti využití
Očekávané směry vývoje:
- Dostupnost kolony Select Low Sulfur ve větším vnitřním průměru k dalšímu snížení detekčních limitů
- Integrace s automatizovanými odběrovými systémy pro online monitoring
- Rozšíření aplikace na další ropné a petrochemické plyny
- Využití alternativních reaktivních plynů pro další potlačení interferencí
Závěr
Studie prokázala, že kombinace kolony Agilent Select Low Sulfur s GC-ICP-MS QQQ v ORS režimu představuje efektivní, citlivý a robustní nástroj pro kvantifikaci stopových nečistot v propylenu. Jednotný postup zkracuje dobu analýzy, minimalizuje potřebu výměny kolon a ladicích podmínek a poskytuje spolehlivé výsledky na úrovni ppb.
Reference
- Geiger W. M., McElmurry B., Anguiano J.: Analysis of propylene impurities using select low sulfur column and single tune with GC-ICP-MS QQQ ORS. Agilent Technologies, Solutions for Your Analytical Business, 5991-6823EN, 2016.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
2015|Agilent Technologies|Aplikace
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ Application note Semiconductor and petrochemical Authors William Geiger CONSCI, Ltd., Pasadena, Texas, USA Emmett Soffey, Steve Wilbur and Chris Scanlon Agilent Technologies Inc., USA Introduction Hydride gases, such as phosphine and…
Klíčová slova
sulfide, sulfideicp, icpppb, ppbqqq, qqqgas, gascarbonyl, carbonylcell, cellphosphine, phosphinesilane, silanecos, cosomega, omegahydride, hydrideusing, usingsemiconductor, semiconductorpetrochemical
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
2020|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Semiconductor Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using a single column, single injection volume, and multi-tune method Authors Introduction William M. Geiger, Blake McElmurry, Jesus Anguiano1 Mark…
Klíčová slova
germane, germanearsine, arsinephosphine, phosphinesilane, silanesulfide, sulfideicp, icpgas, gashydrogen, hydrogenhydride, hydrideintegration, integrationdopants, dopantsqqq, qqqtime, timegallium, galliumstandard
Analysis of Arsine and Phosphine in Ethylene and Propylene Using the Agilent Arsine Phosphine GC/MS Analyzer with a High Efficiency Source
2016|Agilent Technologies|Aplikace
Analysis of Arsine and Phosphine in Ethylene and Propylene Using the Agilent Arsine Phosphine GC/MS Analyzer with a High Efficiency Source Application Note Petrochemical Authors Abstract Angela Smith Henry and Bruce Quimby The Agilent Arsine Phosphine GC/MS analyzer enables detection…
Klíčová slova
arsine, arsinephosphine, phosphinecontaminants, contaminantsanalyzer, analyzerscis, scisethylene, ethyleneagilent, agilentsource, sourceefficiency, efficiencycos, cosdigit, digithes, hespolymerization, polymerizationcleaning, cleaningidl
Dual-Channel Gas Chromatographic System for the Determination of Low-Level Sulfur in Hydrocarbon Gases
2003|Agilent Technologies|Aplikace
Dual-Channel Gas Chromatographic System for the Determination of Low-Level Sulfur in Hydrocarbon Gases Application Hydrocarbon Processing Authors Roger L. Firor and Bruce D. Quimby Agilent Technologies, Inc. 2850 Centerville Road Wilmington, DE 19808 USA Abstract A 6890N equipped with dual…
Klíčová slova
sulfur, sulfurtht, thtbush, bushdms, dmsfpd, fpdcos, cosetsh, etsharsine, arsinepropylene, propylenehydrocarbon, hydrocarbonphosphine, phosphinegaspro, gaspromin, minmakeup, makeupinterference