GCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ

Aplikace | 2015 | Agilent TechnologiesInstrumentace
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Hydridové plyny, jako jsou fosfin, arsín, hydrogen sulfid, karbonyl sulfid a silan, představují klíčové nežádoucí příměsi v procesech petrochemického a polovodičového průmyslu. I stopové množství ovlivňuje účinnost katalyzátorů při výrobě polymerů a elektrické vlastnosti polovodičových materiálů či zařízení. S rostoucími požadavky na čistotu a výkonnost roste potřeba spolehlivé analýzy na úrovni ppt.

Cíle a přehled studie


Cílem studie bylo vyvinout a ověřit vysoce citlivou metodu na bázi kombinace plynové chromatografie s trojnásobným kvadrupólem ICP-MS (GC-ICP-QQQ), která umožní stanovit široké spektrum hydridových plynů v sub-ppb a ppt úrovních. Metoda byla porovnána s konvenční GC-ICP-MS (Agilent 7900) ve standardním režimu.

Použitá metodika a instrumentace


Pro separaci byl použit GC Agilent 7890 s kolonkou DB-1 (100 m × 0,53 mm, 5,0 µm) za izotermických podmínek a konstantního tlaku 20 psig. Vzorkování probíhalo pomocí šestipolohového ventilu s 400 µL smyčkou. GC byl napojen na Agilent 8800 ICP-QQQ vybavený dvojnásobným kvadrupólem (Q1 a Q2) kolem ORS3 buňky, kde se jako reakční plyn používalo kyslíku (O2 mode) pro tvorbu reakčních produktů (MO+) a vodík (H2 mode) pro odstraňování interferencí při měření Si.

Hlavní výsledky a diskuse


Detekční limity (DL) vypočtené dvojím přístupem (2×S/N a metodou opakovaných měření) pro GC-ICP-QQQ dosahovaly:
  • fosfin (PO+): 8–19 ppt
  • german (GeO+): 3,9 ppt
  • arsín (AsO+): 1,3 ppt
  • hydrogen sulfid/karbonyl sulfid (SO+): 110–210 ppt
  • silan (Si+): 140–200 ppt
Ve srovnání s konvenční GC-ICP-MS byly detekční limity až 5–10× nižší u plynů s vyšším pozadím (P, S) a sub-ppt u Ge a As obou metod.

Přínosy a praktické využití metody


  • Možnost rutinního sledování stopových hydridů na úrovni ppt.
  • Přesnější řízení kvality procesních plynů v petrochemii a polovodičové výrobě.
  • Predikce životnosti katalyzátorů a minimalizace prostojů.
  • Zajištění elektrických parametrů polovodičových materiálů bez interferenčního rušení.

Budoucí trendy a možnosti využití


Dalším směrem je nasazení ultračistých polymerních nebo inertních kolonkových materiálů ke snížení pozadí, rozšíření metodiky na další toxické či radioaktivní hydridy a integrace s on-line procesním monitorováním. Kombinace MS/MS režimu s různými reaktivními plyny nabídne flexibilitu pro široké spektrum analytů.

Závěr


GC-ICP-QQQ s Agilent 8800 prokázala výrazně vyšší citlivost a nižší pozadí než konvenční GC-ICP-MS, umožňuje stanovení klíčových hydridových příměsí v procesech petrochemie a polovodičové výroby na úrovni jednotek až desítek ppt.

Reference


  • Geiger W, Soffey E, Wilbur S, Scanlon C. Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ. Agilent Technologies Application Note 5991-5849EN, 2015.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
Application Note Semiconductor Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using a single column, single injection volume, and multi-tune method Authors Introduction William M. Geiger, Blake McElmurry, Jesus Anguiano1 Mark…
Klíčová slova
germane, germanearsine, arsinephosphine, phosphinesilane, silanesulfide, sulfideicp, icpgas, gashydrogen, hydrogenhydride, hydrideintegration, integrationdopants, dopantsqqq, qqqtime, timegallium, galliumstandard
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
ANALYSIS OF PROPYLENE IMPURITIES USING SELECT LOW SULFUR COLUMN AND SINGLE TUNE WITH GC-ICP-MS QQQ ORS
CHEMICAL & ENERGY ANALYSIS ANALYSIS OF PROPYLENE IMPURITIES USING SELECT LOW SULFUR COLUMN AND SINGLE TUNE WITH GC-ICP-MS QQQ ORS Solutions for Your Analytical Business Markets and Applications Programs Author William M. Geiger Blake McElmurry Jesus Anguiano CONSCI, Ltd. Pasadena,…
Klíčová slova
propylene, propylenesulfide, sulfidearsine, arsinephosphine, phosphinetune, tunesulfur, sulfurmarkets, marketscarbonyl, carbonylanalyte, analyteselect, selectpropane, propanematrix, matrixmcelmurry, mcelmurrysingle, singleblake
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchmode
Další projekty
LCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.