Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Příručky | 2022 | Agilent TechnologiesInstrumentaceVýznam tématu
Detekce stopových kovových kontaminantů v plynných prekurzorech používaných v polovodičovém a chemickém průmyslu je klíčová pro zajištění kvality finálních výrobků. Kovové karbonyly (např. Ni(CO)₄, Fe(CO)₅) vznikající v oxidu uhelnatém nebo arsinu mohou způsobit závažné poruchy či nebezpečí pro zařízení i uživatele.
Cíle a přehled studie / článku
Cílem bylo vyvinout metodu pro stanovení Ni(CO)₄, Fe(CO)₅ a dalších kovových karbonylů v CO a AsH₃ s detekčními limity na úrovni stovek ppt. Vyžaduje to citlivou detekci a spolehlivou kalibraci bez dostupnosti plynných standardů kovových karbonylů.
Použitá metodika a instrumentace
Hlavní výsledky a diskuse
Přínosy a praktické využití metody
Budoucí trendy a možnosti využití
Závěr
GC-ICP-QQQ s MS/MS režimem představuje vysoce citlivou a selektivní metodu pro stanovení kovových karbonylů ve vysoce čistých plynech. Umožňuje sub-ppb detekci Ni(CO)₄, Fe(CO)₅ a dalších doplňujících analyzovaných hydridů se dvěma ladicími režimy v jedné chromatografické analýze.
Reference
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
ZaměřeníPolovodiče
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Detekce stopových kovových kontaminantů v plynných prekurzorech používaných v polovodičovém a chemickém průmyslu je klíčová pro zajištění kvality finálních výrobků. Kovové karbonyly (např. Ni(CO)₄, Fe(CO)₅) vznikající v oxidu uhelnatém nebo arsinu mohou způsobit závažné poruchy či nebezpečí pro zařízení i uživatele.Cíle a přehled studie / článku
Cílem bylo vyvinout metodu pro stanovení Ni(CO)₄, Fe(CO)₅ a dalších kovových karbonylů v CO a AsH₃ s detekčními limity na úrovni stovek ppt. Vyžaduje to citlivou detekci a spolehlivou kalibraci bez dostupnosti plynných standardů kovových karbonylů.Použitá metodika a instrumentace
- GC-ICP-QQQ: Agilent 7890B GC spojený s Agilent 8800 ICP-QQQ (MS/MS režim) pro rozlišení spektrálních interferencí pomocí dvojitého kvadrupólu.
- Deans Switch s PEEK částmi a inertními průtokovými cestami zabraňuje kontaminaci stříhacího ventilu kovem karbonylem.
- Vícenásobné režimy buněčného plynu: He pro Ni on-mass, H2 pro Fe on-mass, O2 pro masový posun (PO+, SO+, GeO+, AsO+).
- Simultánní ústa standardů a vzorku (bílé standardy se vstřikovaly do centrifugu) pro online metodu standardních přídavků.
Hlavní výsledky a diskuse
- Lineární kalibrace Ni(CO)₄ (m/z 58) a Fe(CO)₅ (m/z 56) umožnila DLs ~70–80 ppt (2×S/N) a 140 ppt (t-student) pro Fe.
- Metoda MS/MS v masovém posunu O₂ odstranila interferující m/z 31, 32 (PO+, SO+), H₂ režim odstranil C–, Ar–polyatomy na Si. DLs silanu, fosfinu, germanu a sirovodíku dosáhly 10–100 ppt.
- Spolehlivá reprodukovatelnost těchto DLs naznačuje, že přístrojové zázemí i chromatografický systém jsou dostatečně robustní.
Přínosy a praktické využití metody
- Jedna GC injekce pokryje více analyzovaných kovových karbonylů za použití různých režimů ORS buněk, bez potřeby více detektorů či metod.
- Online standardní přídavky a inertní průtokové cesty minimalizují riziko kontaminace a chyb kalibrace.
- Metoda s DLs ve stovkách ppt splňuje i budoucí požadavky průmyslu pro ještě nižší úrovně kovových kontaminací.
Budoucí trendy a možnosti využití
- Dálší zlepšení citlivosti pro Sb(CO)₄, Mo(CO)₆ nebo W(CO)₆ s cílem sledu kovových karbonylů v širším spektru průmyslových plynů.
- Integrace s kontinuálním online monitoringem pro průběžnou kontrolu kvality plynů v reálném čase.
- Automatizace kalibrace i vzorkování pomocí pokročilých průtokových a mikrofluidních systémů.
Závěr
GC-ICP-QQQ s MS/MS režimem představuje vysoce citlivou a selektivní metodu pro stanovení kovových karbonylů ve vysoce čistých plynech. Umožňuje sub-ppb detekci Ni(CO)₄, Fe(CO)₅ a dalších doplňujících analyzovaných hydridů se dvěma ladicími režimy v jedné chromatografické analýze.Reference
- Stedman D.H. et al., Science, 208, 1029 (1980)
- Harper A., Analyst, 116, 149 (1991)
- Geiger W.M. a Soffey E., Agilent 8800 ICP-QQQ Application Handbook, 2020, 37–40
- Geiger W.M., Raynor M.W., Trace Analysis of Specialty and Electronic Gases, Wiley, 2013
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
2022|Agilent Technologies|Příručky
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchmode
Agilent ICP-MS Journal (February 2015 – Issue 60)
2015|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent ICP-MS Journal February 2015 – Issue 60 Inside this Issue 2-3 An Analyst's Perspective: 8800 ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4-5 Characterization of Nanoparticles in Consumer Products and Water Samples using CE-ICP-MS 6 Investigation of Aviation Gasoline for…
Klíčová slova
icp, icpnps, npstanks, tanksagilent, agilenttel, teltank, tanksize, sizedls, dlsconsumer, consumerfuel, fuelhot, hotcharacterization, characterizationnanoparticles, nanoparticlesyokogawa, yokogawasilicon
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
2020|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Semiconductor Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using a single column, single injection volume, and multi-tune method Authors Introduction William M. Geiger, Blake McElmurry, Jesus Anguiano1 Mark…
Klíčová slova
germane, germanearsine, arsinephosphine, phosphinesilane, silanesulfide, sulfideicp, icpgas, gashydrogen, hydrogenhydride, hydrideintegration, integrationdopants, dopantsqqq, qqqtime, timegallium, galliumstandard
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
2015|Agilent Technologies|Aplikace
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ Application note Semiconductor and petrochemical Authors William Geiger CONSCI, Ltd., Pasadena, Texas, USA Emmett Soffey, Steve Wilbur and Chris Scanlon Agilent Technologies Inc., USA Introduction Hydride gases, such as phosphine and…
Klíčová slova
sulfide, sulfideicp, icpppb, ppbqqq, qqqgas, gascarbonyl, carbonylcell, cellphosphine, phosphinesilane, silanecos, cosomega, omegahydride, hydrideusing, usingsemiconductor, semiconductorpetrochemical