GCMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Agilent ICP-MS Journal (February 2015 – Issue 60)

Ostatní | 2015 | Agilent TechnologiesInstrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Zaměření
Životní prostředí, Průmysl a chemie
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


ICP-MS a jeho pokročilé varianty jsou klíčovým nástrojem pro stopové stanovení kovů a charakterizaci nanopartikulárních systémů v polovodičovém průmyslu, environmentální analýze, farmaceutickém výzkumu i při vývoji nových přístrojů.

Cíle a přehled článku


Časopis představuje několik aplikovaných studií:
  • Analyst's Perspective – použití Agilent 8800 ICP-QQQ pro kontrolu kovových kontaminantů na křemíkových waferech.
  • Characterization of Nanoparticles – CE-ICP-MS metoda pro simultánní stanovení velikosti a složení nanopartiklí ve spotřebním zboží a vodních vzorcích.
  • Investigation of Aviation Gasoline – GC-ICP-MS analýza profilu uhlovodíků a obsahu tetraethylolova v leteckém benzínu.
  • Agilent ICP-MS: History of Innovation – přehled vývoje ICP-MS od prvních modelů PMS až po moderní kvadrupólové MS/MS systémy.

Použitá metodika a instrumentace


Hlavní přístroje a techniky:
  • ICP-QQQ (MS/MS) – Agilent 8800 s buněčnými reakcemi (H₂, O₂) pro odstranění interferencí.
  • CE-ICP-MS – Agilent HP 3D CE spojený s 7500ce, separace nanopartiklí podle migrace a multielementální detekce.
  • GC-ICP-MS – Agilent 7890 GC spojený s 7900 ICP-MS v TRA režimu pro monitorování ¹³C a Pb izotopů.
  • Vývojové milníky – PMS100/200 (1987–1990), HP 4500 (1994), Agilent 7500 (2000), 7700 (2007), 8800 (2012), 7900 (2014).

Hlavní výsledky a diskuse


Studie potvrdily:
  • V polovodičovém průmyslu lze stanovit stopové kovové kontaminanty (Li–Pb) na waferech s DL v řádu 0,01–5 ppt díky MS/MS filtrovaní Si interferencí.
  • CE-ICP-MS umožňuje paralelní stanovení více velikostí Ag a Au NPs (10–40 nm) spolu s rozlišením iontů, validované porovnáním s TEM a DLS.
  • GC-ICP-MS usnadňuje rychlou kontrolu složení AvGas 100LL a přesné stanovení obsahu tetraethylolova (0,41–0,43 g/L) bez přítomnosti nežádoucích frakcí.
  • Pokrok v instrumentaci vedl k vyšší citlivosti, dynamickému rozsahu, odolnosti vůči vysoké solnosti a usnadnění obsluhy moderních ICP-MS přístrojů.

Přínosy a praktické využití metody


Aplikované metody poskytují spolehlivý nástroj pro: kontrolu kvality procesních kapalin a povrchů ve výrobě polovodičů, analýzu nanopartiklí v komerčních výrobcích a sledování kontaminace v životním prostředí.

Budoucí trendy a možnosti využití


Očekává se další rozvoj MS/MS technologií pro dokonalé potlačování interferencí, automatizace vzorkování, miniaturizace separačních modulů a rozšíření aplikací v biomedicíně, forenzní chemii a dynamickém sledování NPs in situ.

Závěr


Prezentované příspěvky ilustrují výjimečnou výkonnost moderních ICP-MS systémů a jejich schopnost řešit náročné analytické úlohy v multiaplikacích. Historie vývoje od experimentálních prototypů až po MS/MS platformy potvrzuje neustálý posun v citlivosti, selektivitě a robustnosti analýz.

Reference


  • Katsuo Mizobuchi, Masakazu Yukinari, Ultra trace measurement of potassium and other elements in ultrapure water using the Agilent 8800 ICP-QQQ in cool plasma reaction cell mode, Agilent (2014), 5991-5372EN.
  • Lihong Liu et al., Identification and Accurate Size Characterization of Nanoparticles in Complex Media by CE-ICP-MS, Angew. Chem. Int. Ed. 2014, 53, 14476–14479.
  • M. Hasselløv, J.W. Readman, J.F. Ranville, K. Tiede, Ecotoxicology 2008, 17, 344–361.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchmode
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ Application note Semiconductor and petrochemical Authors William Geiger CONSCI, Ltd., Pasadena, Texas, USA Emmett Soffey, Steve Wilbur and Chris Scanlon Agilent Technologies Inc., USA Introduction Hydride gases, such as phosphine and…
Klíčová slova
sulfide, sulfideicp, icpppb, ppbqqq, qqqgas, gascarbonyl, carbonylcell, cellphosphine, phosphinesilane, silanecos, cosomega, omegahydride, hydrideusing, usingsemiconductor, semiconductorpetrochemical
HANDBOOK OF HYPHENATED ICP-MS APPLICATIONS - 2nd Edition
HANDBOOK OF HYPHENATED ICP-MS APPLICATIONS 2nd Edition Foreword Without doubt, speciation analysis has found its rightful place as a valuable methodology within the toolbox of analytical science. The enhanced information value provided by speciation analysis compared to classical elemental analysis…
Klíčová slova
icp, icpspeciation, speciationspecies, specieshplc, hplcarsenic, arsenicflow, flowmercury, mercuryrate, rategas, gasfff, fffselenium, seleniumdetermination, determinationkeywords, keywordsplasma, plasmausing
Další projekty
LCMS
ICPMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.